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      您的位置:首頁  -  產(chǎn)品中心  -  研磨分散機(jī)  -  高速研磨分散機(jī)  -  GMSD2000高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)

      高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)

      高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī),上海SGN(思峻)機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對(duì)納米材料分散開發(fā)的高剪切三級(jí)分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。

      • 產(chǎn)品型號(hào):GMSD2000
      • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      • 更新時(shí)間:2024-09-18
      • 訪  問  量:2067
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      聯(lián)系電話:021-67898912

      產(chǎn)品詳情

      一、設(shè)備供應(yīng):

      高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī),納米制藥用級(jí)氧化鎂乳化機(jī),氧化鎂納米研磨分散機(jī),氧化鎂納米分散均質(zhì)設(shè)備

       

      二、應(yīng)用領(lǐng)域:

       

      隨著產(chǎn)業(yè)化升級(jí)及技術(shù)功能材料市場的需求和發(fā)展,研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細(xì)氧化鎂產(chǎn)品,主要用于高級(jí)潤滑油、高級(jí)鞣革提堿級(jí)、食品級(jí)、醫(yī)藥級(jí)、硅鋼級(jí)、高級(jí)電磁級(jí)、高純氧化鎂等近十個(gè)品種組成。

       

      三、設(shè)備介說明:

       

      SGN德國納米制藥用級(jí)氧化鎂研磨分散機(jī)在分散氧化鎂時(shí)通過14000rpm很高的轉(zhuǎn)速形成的剪切力很強(qiáng)使物料在0.2-0.3mm極細(xì)的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬次的撞擊、破碎、撕裂,將原本抱團(tuán)的納米級(jí)氧化鎂進(jìn)一步的破碎,打開團(tuán)塊形成納米級(jí)顆粒狀,為防止被打碎的納米級(jí)氧化鎂顆粒再次抱團(tuán),我們?cè)谘?nbsp;磨后又加了一級(jí)分散均質(zhì)盤,對(duì)物料進(jìn)行*的分散,阻止物料再進(jìn)行二次抱團(tuán)。氧化鎂分散的越細(xì)越均一,對(duì)于后期做應(yīng)用性能就越好!

       

       

      四、影響納米材料分散要素:

       

      1、分散介質(zhì)

      (1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

      2、分散劑

      (1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

      (2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

      (3)水性介質(zhì)中,推薦使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, 推薦使用TNADIS。

      3、分散設(shè)備

      上海SGN(思峻)機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對(duì)納米材料分散開發(fā)的高剪切三級(jí)分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

      技術(shù)及價(jià)格請(qǐng)來電:公司有樣機(jī)可供客戶購前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!

       

      高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設(shè)備的設(shè)備。

      當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí),甚至納米級(jí)時(shí),體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散均質(zhì),經(jīng)過高頻管線式高剪切分散機(jī)的循環(huán)往復(fù),ZUI終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

       

      五、設(shè)備參數(shù):

       

      型號(hào)

      流量

      L/H

      轉(zhuǎn)速

      rpm

      線速度

      m/s

      功率

      kw

      入/出口連接

      DN

      GMD2000/4

      300

      9000

      23

      2.2

      DN25/DN15

      GMD2000/5

      1000

      6000

      23

      7.5

      DN40/DN32

      GMD2000/10

      2000

      4200

      23

      22

      DN80/DN65

      GMD2000/20

      5000

      2850

      23

      37

      DN80/DN65

      GMD2000/30

      8000

      1420

      23

      55

      DN150/DN125

      GMD2000/50

      15000

      1100

      23

      110

      DN200/DN150

       

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